繞射峰擬合¶

Fitting diffraction peaks 工具會以合適的函數擬合繞射圖譜的峰，從各峰位置 2θ 求出晶面間距(d值)，並以最小二乘法精修晶格常數。可從主視窗的工具列啟動。

基本操作流程¶

在晶體清單中選取目標晶體（在多重圖譜模式下，也一併選取要處理的圖譜）。
在主視窗中用滑鼠拖曳繞射線，使其盡量與量測到的峰重疊。
從繞射峰清單（勾選清單方塊）中選擇要擬合的繞射線指數。
一旦選取了足以求解最小二乘法計算的獨立指數，最可能的晶格常數就會連同誤差一起顯示在右下方的 Optimized cell constants（最佳化的晶胞參數）面板中。
按下 Apply to the crystal（套用至晶體）即可將精修後的晶格常數回寫到主程式中的晶體。

勾選並選取晶體

此處的晶體清單與主視窗中的相同。要讓擬合生效，目標晶體必須同時被勾選且被選取。

左上方的晶體清單包含與主視窗相同的晶體。在此勾選並選取的晶體即成為擬合的對象。詳情請參閱晶體參數。

此處列出所選晶體的繞射線。勾選某一列的核取方塊，即可將該繞射線設為擬合對象。清單包含以下欄位。

清單下方的按鈕可匯出結果。

在此進行擬合峰圖譜時所使用的詳細設定。

按下 Apply to all（套用至全部）會將目前的設定一次套用到所有繞射線。

選擇擬合所使用的峰函數。

峰函數	內容
`Simple Search`	不進行函數擬合，將計算所得繞射線位置 ±Search Range 範圍內強度最強的點視為峰位置。
`Symmetric Pseudo Voigt`	以左右對稱的擬 Voigt 函數擬合。
`Symmetric Pearson VII`	以左右對稱的 Pearson VII 函數擬合。
`Split Pseudo Voigt`	以左右不對稱（分裂型）的擬 Voigt 函數擬合。
`Split Pearson VII`	以左右不對稱（分裂型）的 Pearson VII 函數擬合。

建議使用的函數

若無特殊理由，建議使用穩定性較佳的 Symmetric Pseudo Voigt。

擬 Voigt 函數是高斯函數 \(G(x)\) 與勞侖茲函數 \(L(x)\) 以混合參數 \(\eta\) 線性組合而成，公式如下：

\[ \mathrm{pV}(x) = \eta\, L(x) + (1-\eta)\, G(x), \qquad 0 \le \eta \le 1 \]

其中 \(\eta\) 為勞侖茲成分所佔的比例。分裂型則是在峰位置左右分別獨立取用半高全寬等參數，藉此表現不對稱的圖譜形狀。

當所選取的兩條以上繞射線之 Search Range 發生重疊時，此選項用於選擇是否進行圖譜分解（同時擬合重疊的峰）。

一旦選取了足以使最小二乘法計算可解的獨立指數，此面板會顯示最可能的晶格常數 \(a, b, c, \alpha, \beta, \gamma\) 與體積 \(V\)，並各自附上誤差（±）。

關於 NA 顯示

當自由度不足時——也就是自由度等於所擬合峰的數量，或某一晶格常數不具自由度時——會以 NA 取代誤差值顯示。選取足夠數量的獨立反射即可計算出誤差。

此功能會從圖譜中減去已擬合的峰，並將殘差圖譜輸出為新的圖譜。在 New profile name（新輪廓名稱）中輸入目的地名稱，再按下 Remove fitted peaks（移除已擬合的峰）即可執行相減。適用於確認背景或重疊峰的分離情形。