主視窗¶
啟動軟體後，會出現如下畫面。主視窗由中央的圖譜繪製區、上方的選單列與工具列（功能清單）、上方的頁籤選單（水平軸／外觀 & 單一/多重圖譜）、右上方的圖譜清單，以及右下方的晶體清單組成。
圖譜繪製區¶
此區域佔據視窗的大部分，顯示圖譜清單中勾選的圖譜。當在晶體清單中選取晶體時，也會在繞射峰的位置繪出繞射線。
滑鼠操作¶
| 操作 | 動作 |
|---|---|
| 左鍵拖曳 | 移動繞射線（變更晶體的晶格常數） |
| 右鍵拖曳 | 放大 |
| 右鍵點按 | 縮小 |
| 中鍵拖曳 | 平移顯示範圍 |
水平軸與垂直軸的繪製範圍，可透過直接在繪製區上方的數值方塊（2θ:、d:、Int.:、q: 等，標籤依所選的水平軸模式而異）中輸入數值來變更。
Tip
水平軸的顯示模式（角度、能量、晶面間距(d值) 等）可在 水平軸 頁籤 中切換。此設定僅影響顯示，不會變更圖譜本身的水平軸資料。
工具列（功能清單）¶
工具列上的每個按鈕都能開關對應的分析視窗。
| 按鈕 | 功能 | 參閱 |
|---|---|---|
結晶參數 (C) |
開關晶體參數視窗。 | 晶體參數 |
剖面參數 (P) |
開關圖譜參數視窗。 | 圖譜參數 |
狀態方程 (E) |
開關狀態方程視窗，以根據標準物質的晶胞體積估算壓力。 | 狀態方程 |
繞射峰擬合 (F) |
開關繞射峰擬合視窗，以擬合繞射峰（位置、半高全寬、強度）。 | 繞射峰擬合 |
晶胞搜尋器 |
開關晶胞搜尋器視窗，以從峰位置搜尋晶格常數。 | — |
連續分析 |
開關連續分析視窗，以批次處理一系列檔案。 | 連續分析 |
原子位置搜尋器 |
開關原子位置搜尋視窗，以從繞射強度搜尋原子位置。 | — |
LPO 分析 |
開關 LPO（晶格優選取向）分析視窗。 | — |
Note
主要視窗也能以鍵盤快速鍵開關：Ctrl+Shift+C（晶體參數）、Ctrl+Shift+E（狀態方程）、Ctrl+Shift+F（擬合參數）、Ctrl+Shift+D（變更峰模式）。
選單列¶
檔案¶
| 項目 | 說明 |
|---|---|
讀取輪廓檔 |
讀取圖譜資料。除了本軟體自身的 pdi／pdi2 格式外，也可讀取 WinPIP 輸出的 csv、Fit2D 輸出的 chi 等格式。大多以角度－強度文字格式儲存的檔案也能讀取。 |
儲存輪廓檔 |
將所有已載入的圖譜以本軟體的 pdi2 格式儲存。 |
匯出選取的輪廓 |
將選取的圖譜匯出為逗號分隔（CSV）、定位點分隔（TSV），或 GSAS（Rietveld）資料檔。 |
載入晶體（做為新清單） |
載入晶體清單檔（副檔名 xml）。目前的晶體清單會被捨棄。 |
載入晶體（並加入目前清單） |
載入晶體清單檔（副檔名 xml），並附加到目前晶體清單的末尾。 |
儲存晶體 |
將目前的晶體清單儲存至檔案（副檔名 xml）。 |
匯入 CIF、AMC... |
匯入 cif 或 amc 格式的結構資料檔，並加入目前的晶體清單。 |
將選取的晶體匯出為 CIF |
將選取的晶體儲存為 cif 格式的結構資料檔。 |
將晶體還原為初始狀態 |
將晶體清單還原為初始（預設）狀態。 |
版面設定 |
開啟列印用的版面設定對話方塊。 |
預覽列印 |
顯示圖譜檢視器的預覽列印。 |
列印 |
列印。列印範圍為目前的角度與強度範圍。 |
複製到剪貼簿 |
將目前繪製的圖譜以點陣圖資料或中繼檔（向量）資料複製到剪貼簿。 |
另存為中繼檔 |
將目前繪製的圖譜以中繼檔格式儲存。支援 EMF（Enhanced Meta File）格式，儲存後的 *.emf 檔可在 PowerPoint 與 Word 中開啟。 |
關閉 |
關閉 PDIndexer。 |
選項¶
| 項目 | 說明 |
|---|---|
工具提示 |
勾選後，會在主視窗顯示工具提示。 |
監視剪貼簿 |
監視剪貼簿，並自動匯入從其他應用程式（例如 IPAnalyzer）複製的圖譜／晶體資料。 |
監視檔案 |
監視指定的資料夾，並自動讀取新建立的 .pdi 圖譜檔。可從選擇對話方塊或直接輸入路徑來指定要監視的資料夾。 |
清除登錄檔 (勾選後重新啟動) |
勾選後，會在結束時清除登錄檔中所有已儲存的設定（重新啟動即可重設）。 |
關閉時儲存晶體清單 |
勾選後，會在結束時自動儲存晶體清單，並於下次啟動時重新載入。 |
巨集¶
編輯器 會開啟巨集編輯器視窗。PDIndexer 巨集功能的詳細說明請參閱 巨集。
說明¶
| 項目 | 說明 |
|---|---|
關於 |
顯示著作權、版本與作者資訊，以及版本歷史。 |
程式更新 |
於線上檢查是否有較新版本，若有則下載／安裝。 |
提示 |
顯示使用提示（已棄用）。 |
說明 (web) |
顯示本手冊。 |
語言¶
切換介面語言。目前支援英文（英文 (需重新啟動)）與日文（日文 (需重新啟動)）。切換後需要重新啟動。
水平軸 頁籤¶
水平軸 頁籤用於設定顯示軸的模式。此處的設定僅影響顯示，與實際的水平軸資料無關（實際的水平軸資訊可從 圖譜參數 變更）。因此，即使使用了不同的 X 光源，也能對齊水平軸以便比較。例如，即使載入的圖譜是以 Cu Kα 線取得，也能以 Mo Kα 線波長的方式顯示。
| 項目 | 說明 |
|---|---|
讀取圖譜後，變更水平軸 |
勾選後，會自動將水平軸設定對齊新載入圖譜的設定。 |
| 2θ (degree) | 將水平軸設為角度。選擇 X射線 選項按鈕可得到 X 光的散射角；從下拉清單選擇特性 X 光源或 Custom 並指定波長。選擇 電子 選項按鈕可得到電子的散射角；指定加速電壓後，會計算相對論修正後的波長。 |
| Energy (eV) | 將水平軸設為能量（單位 eV）。此對應使用 EDX 偵測器的 X 光繞射實驗。請適當設定 EDX 的取出角。 |
| d-spacing (Å) | 將水平軸設為晶面間距(d值)。 |
| q | 將水平軸設為散射向量大小 \( q \)。 |
散射角與晶面間距(d值)之間的關係由布拉格定律給出，其中 \( \lambda \) 為波長：
外觀 & 單一/多重圖譜 頁籤¶
外觀 & 單一/多重圖譜 頁籤用於設定繪製外觀，以及單一／多重圖譜顯示。
刻度與顏色設定¶
| 項目 | 說明 |
|---|---|
刻度線 |
選擇是否顯示刻度（格線）線。 |
誤差棒 |
當資料含有誤差資訊時，顯示誤差棒。 |
顏色 |
設定顯示顏色，例如 背景顏色、刻度線 與 刻度文字。 |
單一/多重圖譜¶
目前勾選的模式即為目前使用中的模式。
| 項目 | 說明 |
|---|---|
單一圖譜 |
單一圖譜模式。當載入圖譜，或透過剪貼簿從 IPAnalyzer 傳送圖譜時，舊圖譜會被刪除，並繪出新圖譜。 |
多重圖譜 |
多重圖譜模式。新圖譜會被載入並疊加在既有圖譜之上。 |
各圖譜間的強度位移 |
設定疊加多筆資料時，各筆資料間的強度位移。此設定僅為了維持顯示的易讀性，實際資料不會被變更。 |
自動變更顏色 |
勾選後，會自動變更圖譜的繪製顏色。 |
垂直軸¶
指定垂直軸（強度）要以原始計數（原始計數）或每步計數（每步計數 (CPS)）顯示。也可指定垂直軸要以線性（線性）或對數（對數）刻度顯示。
圖譜清單¶
顯示並選取已載入的圖譜。在 單一圖譜 模式下會停用。
在多重圖譜模式下，已載入的圖譜會以清單顯示，只有勾選的圖譜會繪製在中央的繪製區中。更詳細的圖譜設定可透過勾選方塊下方的 剖面參數 核取方塊來進行（參閱 圖譜參數）。
晶體清單¶
顯示並設定晶體清單。勾選項目後，會在繞射峰的位置繪出繞射線。預設狀態下，已預先登錄約 80 種晶體。
特殊列
- 第一列（第 0 列）為 Flexible Crystal（青色背景），用於繪製任意的繞射線。
- 上方的列（粉紅色背景，例如
NaCl EOS與Pt EOS）保留作為狀態方程（EOS）計算用的標準物質。
更詳細的晶體設定可透過勾選方塊下方的 結晶參數 (C) 核取方塊來進行（參閱 晶體參數）。全部勾選/取消 可一次勾選或取消整個晶體清單。